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思茅AW-MP系列腔体式微波等离子清洗机
产品特性
对气体分子有较高的电离和分解程度，离子密度均匀
高压源和等离子体发生器互相隔离，安全因素高
人性化操作界面，易操作和保养维护
性能可靠，良好的互锁、故障报警和实时监控功能
腔体后端安装有屏蔽系统，避免电磁辐射
工艺选择性去除污染物
可同时存储多组配方，调用即可
全过程工艺可控，可在线设置、修改、监控各种工艺参数
没有内部电极，在等离子腔体内没有工作气体以外的任何物质污染源，洁净度高
可选自动门方式，方便后续自动化连线需求
对气体分子有较高的电离和分解程度，离子密度均匀
高压源和等离子体发生器互相隔离，安全因素高
人性化操作界面，易操作和保养维护
性能可靠，良好的互锁、故障报警和实时监控功能
腔体后端安装有屏蔽系统，避免电磁辐射
工艺选择性去除污染物
可同时存储多组配方，调用即可
全过程工艺可控，可在线设置、修改、监控各种工艺参数
没有内部电极，在等离子腔体内没有工作气体以外的任何物质污染源，洁净度高
可选自动门方式，方便后续自动化连线需求
类别：
产品描述
产品参数
| 产品型号 | AW-MP60 |
| 外形尺寸(含报警灯塔) | L1000×W950×H1950(mm) |
| 腔体尺寸 | L400×W400×H400(mm) |
| 等离子体发生器 | 频率2 . 45GHz,功率50 - 1000W可调 |
| 电极规格 | 底部装有可旋转托盘，仓体右侧安装陶瓷基板，用于扩散微波 |
| 真空系统 | 双级真空泵，进口气动角阀、充气阀，高精度真空计 |
| 气路系统 | 制程气体：O2/Ar/H2,质量流量计控制，气体流量0 - 200ml/min可调，不锈钢抛光气体管路及接口组件 |
| 控制系统 | 触摸屏+PLC全自动控制，手动+自动两种操作模式(可选配工控机，实现MES系统连接) |
| 备注 | 可按客户需求弹性设计 |
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